介電常數(shù)測(cè)試儀參數(shù)
1、范圍
本標(biāo)準(zhǔn)適用于測(cè)量液體、易熔材料以及固體材料。測(cè)試結(jié)果與某些物理?xiàng)l件有關(guān),例如頻率、溫度、濕度,在特殊情況下也與電場(chǎng)強(qiáng)度有關(guān)。
2、規(guī)范性引用文件
IEC60247:1978 液體絕緣材料相對(duì)電容率、介質(zhì)損耗因數(shù)和直流電阻率的測(cè)量
下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
相對(duì)電容率relative permittivity
電容器的電之間及電周?chē)目臻g全部充以絕緣材料時(shí),其電容Cx與同樣電構(gòu)形的真空電容Co之比;
式中;
Cx——充有絕緣材料時(shí)電容器的電電容;
在標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下,不含二氧化碳的干燥空氣的相對(duì)電容率ε r等于1.00053,因此,用這種電構(gòu)形在空氣中的電容Cx來(lái)代替Co測(cè)量相對(duì)電容率εr時(shí),也有足夠的度。
在SI制中,電容率用法/米(F/m)表示。而且,在SI單位中,電氣常數(shù)εr,為:
在本標(biāo)準(zhǔn)中,用皮法和厘米來(lái)計(jì)算電容,真空電氣常數(shù)為:ε0=0.088 54 pF/cm
介質(zhì)損耗角dielectric loss angle
由絕緣材料作為介質(zhì)的電容器上所施加的電壓與由此而產(chǎn)生的電流之間的相位差的余角。
介質(zhì)損耗因數(shù)1) dielectric dissipation factor
損耗角δ的正切。
[介質(zhì)]損耗指數(shù) [dielectric] loss index
該材料的損耗因數(shù)tanδ與相對(duì)電容率εr的乘積。
復(fù)相對(duì)電容率 complex relative permittivity
由相對(duì)電容率和損耗指數(shù)結(jié)合而得到的:
式中:
ε''r——損耗指數(shù);
tanδ——介質(zhì)損耗因數(shù)。
并聯(lián)等值電路 串聯(lián)等值電路
式中:
Rs——串聯(lián)電阻;
CP——并聯(lián)電容;
雖然以并聯(lián)電路表示一個(gè)具有介質(zhì)損耗的絕緣材料通常是合適的,但在單一頻率下,有時(shí)也需要以電容Cs和電阻Rs的串聯(lián)電路來(lái)表示。
無(wú)論串聯(lián)表示法還是并聯(lián)表示法,其介質(zhì)損耗因數(shù)tanδ是相等的。
本標(biāo)準(zhǔn)中的計(jì)算和測(cè)量是根據(jù)電流(ω=πf)正弦波形作出的。
4.1電介質(zhì)的用途
用作電氣回路元件的支撐,并且使元件對(duì)地絕緣及元件之間相互絕緣;
4.2影響介電性能的因素
4.2.1頻率
電容率和介質(zhì)損耗因數(shù)的變化是由于介質(zhì)化和電導(dǎo)而產(chǎn)生,重要的變化是性分子引起的偶子化和材料的不均勻性導(dǎo)致的界面化所引起的。
損耗指數(shù)在一個(gè)頻率下可以出現(xiàn)一個(gè)值,這個(gè)頻率值與電介質(zhì)材料的溫度有關(guān)。介質(zhì)損耗因數(shù)和電容率的溫度系數(shù)可以是正的或負(fù)的,這取決于在測(cè)量溫度下的介質(zhì)損耗指數(shù)值位置。
化的程度隨水分的吸收量或電介質(zhì)材料表面水膜的形成而增加,其結(jié)果使電容率、介質(zhì)損耗因數(shù)和直流電導(dǎo)率增大。因此試驗(yàn)前和試驗(yàn)時(shí)對(duì)環(huán)境濕度進(jìn)行控制是*的。
4.2.4電場(chǎng)強(qiáng)度
在較高的頻率下,只要電介質(zhì)中不出現(xiàn)局部放電,電容率和介質(zhì)損耗因數(shù)與電場(chǎng)強(qiáng)度無(wú)關(guān)。
5.1固體絕緣材料
測(cè)定材料的電容率和介質(zhì)損耗因數(shù),好采用板狀試樣,也可采用管狀試樣。
需要測(cè)低損耗因數(shù)值時(shí),很重要的一點(diǎn)是導(dǎo)線(xiàn)串聯(lián)電阻引人的損耗要盡可能地小,即被測(cè)電容和該電阻的乘積要盡可能小。同樣,被測(cè)電容對(duì)總電容的比值要盡可能地大。點(diǎn)表示導(dǎo)線(xiàn)電阻要盡可能低及試樣電容要小,第二點(diǎn)表示接有試樣橋臂的總電容要盡可能小,且試樣電容要大。因此試樣電容好取值為20pF,在測(cè)量回路中,與試樣并聯(lián)的電容不應(yīng)大于約5pF,
5.1.2.1加到試樣上的電
對(duì)于介質(zhì)損耗因數(shù)的測(cè)量,這種類(lèi)型的電在高頻下不能滿(mǎn)足要求,除非試樣的表面和金屬板都非常平整。圖1所示的電系統(tǒng)也要求試樣厚度均勻。.
表面電導(dǎo)率很低的試樣可以不加電而將試樣插入電系統(tǒng)中測(cè)量,在這個(gè)電系統(tǒng)中,試樣的一側(cè)或兩側(cè)有一個(gè)充滿(mǎn)空氣或液體的間隙。
下面兩種型式的電裝置特別合適.
當(dāng)試樣插入和不插人時(shí),電容都能調(diào)節(jié)到同一個(gè)值,不需進(jìn)行測(cè)量系統(tǒng)的電氣校正就能測(cè)定電容率。電系統(tǒng)中可包括保護(hù)電。
在電容率近似等于試樣的電容率,而介質(zhì)損耗因數(shù)可以忽略的一種液體內(nèi)進(jìn)行測(cè)量,這種測(cè)量與試樣厚度測(cè)量的精度關(guān)系不大。當(dāng)相繼采用兩種流體時(shí),試樣厚度和電系統(tǒng)的尺寸可以從計(jì)算公式中消去。
5.1.2.3邊緣效應(yīng)
此外,在一個(gè)合適的頻率和溫度下,邊緣電容可采用有保護(hù)環(huán)和無(wú)保護(hù)環(huán)的(比較)測(cè)量來(lái)獲得,用所得到的邊緣電容修正其他頻率和溫度下的電容也可滿(mǎn)足精度要求。
5.1.3.1金屬箔電
5.1.3.2燒熔金屬電
5.1.3.3噴鍍金屬電
5.1.3.4陰蒸發(fā)或高真空蒸發(fā)金屬電
5.1.3.5汞電和其他液體金屬電
伍德合金和其他低熔點(diǎn)合金能代替汞。但是這些合金通常含有鎘,鎘象汞一樣,也是毒性元素。這些合金只有在良好抽風(fēng)的房間或在抽風(fēng)柜中才能用于100℃以上,且操作人員應(yīng)知道可能產(chǎn)生的健康危害。
無(wú)論是氣干或低溫烘干的高電導(dǎo)率的銀漆都可用作電材料。因?yàn)榇朔N電是多孔的,可透過(guò)濕氣,能使試樣的條件處理在涂上電后進(jìn)行,對(duì)研究濕度的影響時(shí)特別有用。此種電的缺點(diǎn)是試樣涂上銀漆后不能馬上進(jìn)行試驗(yàn),通常要求12h以上的氣干或低溫烘干時(shí)間,以便去除所有的微量溶劑,否則,溶劑可使電容率和介質(zhì)損耗因數(shù)增加。同時(shí)應(yīng)注意漆中的溶劑對(duì)試樣應(yīng)沒(méi)有持久的影響。
5.1.3.7石墨
5.1.4電的選擇
考慮下面兩點(diǎn)很重要:
b)若試樣上是加電的,由測(cè)量試樣厚度h時(shí)的相對(duì)誤差△h/h所引起的相對(duì)電容率的相對(duì)誤差△εr/εr可由下式得到:
式中:
εr——相對(duì)電容率;
Ah——試樣厚度的偏差。
……………………………(13)
△εr、εr、h同式(12)。
對(duì)于相對(duì)電容率為10以上的無(wú)孔材料,可采用沉積金屬電。對(duì)于這些材料,電應(yīng)覆蓋在試樣的整個(gè)表面上,并且不用保護(hù)電。對(duì)于相對(duì)電容率在3?10之間的材料,能給出高精度的電是金屬箔、汞或沉積金屬,選擇這些電時(shí)要注意適合材料的性能。若厚度的測(cè)量能達(dá)到足夠精度時(shí),試樣上不加電的方法方便而更可取。假如有一種合適的流體,它的相對(duì)電容率已知或者能很準(zhǔn)確地測(cè)出,則采用流體排出法是好的。
對(duì)管狀試樣而言,合適的電系統(tǒng)將取決于它的電容率、管壁厚度、直徑和所要求的測(cè)量精度。一般情況下,電系統(tǒng)應(yīng)為一個(gè)內(nèi)電和一個(gè)稍為窄一些的外電和外電兩端的保護(hù)電組成,外電和保護(hù)電之間的間隙應(yīng)比管壁厚度小。對(duì)小直徑和中等直徑的管狀試樣,外表面可加三條箔帶或沉積金屬帶,中間一條用作為外電(測(cè)量電),兩端各有一條用作保護(hù)電。內(nèi)電可用汞,沉積金屬膜或配合較好的金屬芯軸。
大直徑的管狀或圓筒形試樣,其電系統(tǒng)可以是圓形或矩形的搭接,并且只對(duì)管的部分圓周進(jìn)行試驗(yàn)。這種試樣可按板狀試樣對(duì)待,金屬箔、沉積金屬膜或配合較好的金屬芯軸內(nèi)電與金屬箔或沉積金屬膜的外電和保護(hù)電一起使用。如采用金屬箔做內(nèi)電,為了保證電和試樣之間的良好接觸,需在管內(nèi)采用一個(gè)彈性的可膨脹的夾具。
5.2液體絕緣材料
對(duì)于低介質(zhì)損耗因數(shù)的待測(cè)液體,電系統(tǒng)重要的特點(diǎn)是:容易清洗、再裝配(必要時(shí))和灌注液體時(shí)不移動(dòng)電的相對(duì)位置。此外還應(yīng)注意:液體需要量少,電材料不影響液體,液體也不影響電材料,溫度易于控制,端點(diǎn)和接線(xiàn)能適當(dāng)?shù)仄帘?;支撐電的絕緣支架應(yīng)不浸沉在液體中,還有,試驗(yàn)池不應(yīng)含有太短的爬電距離和尖銳的邊緣,否則能影響測(cè)量精度。
由于有些液體如氯化物,其介質(zhì)損耗因數(shù)與電材料有明顯的關(guān)系,不銹鋼電不總是合適的。有時(shí),用鋁和杜拉鋁制成的電能得到比較穩(wěn)定的結(jié)果。
應(yīng)用一種或幾種合適的溶劑來(lái)清洗試驗(yàn)池,或用不含有不穩(wěn)定化合物的溶劑多次清洗。可以通過(guò)化學(xué)試驗(yàn)方法檢查其純度,或通過(guò)一個(gè)已知的低電容率和介質(zhì)損耗因數(shù)的液體試樣測(cè)量的結(jié)果來(lái)確定。3試驗(yàn)池試驗(yàn)幾種類(lèi)型的絕緣液體時(shí),若單使用溶劑不能去除污物,可用一種柔和的擦凈劑和水來(lái)清潔試驗(yàn)池的表面。若使用一系列溶劑清洗時(shí)則要用沸點(diǎn)低于100°C的分析級(jí)的石油醚來(lái)再次清洗,或者用任一種對(duì)一個(gè)已知低電容率和介質(zhì)損耗因數(shù)的液體測(cè)量能給出正確值的溶劑來(lái)清洗,并且這種溶劑在化學(xué)性質(zhì)上與被試液體應(yīng)是相似的。推薦使用下述方法進(jìn)行清洗。
待試驗(yàn)池的各部件冷卻到室溫,再重新裝配起來(lái)。池內(nèi)應(yīng)注人一些待試的液體,停幾分鐘后,倒出此液體再重新倒人待試液體,此時(shí)絕緣支架不應(yīng)被液體弄濕。
注1:在同種質(zhì)量油的常規(guī)試驗(yàn)中,上面所說(shuō)的淸洗步驟可以代之為在每一次試驗(yàn)后用沒(méi)有殘留紙屑的干紙簡(jiǎn)單地擦擦試驗(yàn)池。
5.2.3試驗(yàn)池的校正
“電常數(shù)”C。的確定按式(14):
式中:
Co——空氣中電裝置的電容;
εn——校正液體的相對(duì)電容率。
來(lái)計(jì)算液體未知相對(duì)電容率εx。
Cg——校正電容;
Cc——電常數(shù)|
εx——液體的相對(duì)電容率。
采用上述方法測(cè)定液體電介質(zhì)的相對(duì)電容率時(shí),可保證其測(cè)得結(jié)果有足夠的精度,因?yàn)樗擞捎诩纳娙莼螂婇g隙數(shù)值的不準(zhǔn)確測(cè)量所引起的誤差。
測(cè)量電容率和介質(zhì)損耗因數(shù)的方法可分成兩種:零點(diǎn)指示法和諧振法。
6.2諧振法適用于10kHz?幾百M(fèi)Hz的頻率范圍內(nèi)的測(cè)量。該方法為替代法測(cè)量,常用的是變電抗法。但該方法不適合采用保護(hù)電。
7、試驗(yàn)步驟
試樣應(yīng)從固體材料上截取,為了滿(mǎn)足要求,應(yīng)按相關(guān)的標(biāo)準(zhǔn)方法的要求來(lái)制備。
7.2條件處理
7.3測(cè)量
在1MHz或更高頻率下,必須減小接線(xiàn)的電感對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響。此時(shí),可采用同軸接線(xiàn)系統(tǒng)(見(jiàn)圖1所示),當(dāng)用變電抗法測(cè)量時(shí),應(yīng)提供一個(gè)固定微調(diào)電容器。
8.1相對(duì)電容率εr
……………………………(17)
εr——相對(duì)電容率;
Ce——邊緣電容;
Co和Ce能從表1計(jì)算得來(lái)。
測(cè)微計(jì)電間或不接觸電間被測(cè)試樣的相對(duì)電容率可按表2、表3中相應(yīng)的公式計(jì)算得來(lái)。
介質(zhì)損耗因數(shù)tanδ按照所用的測(cè)量裝置給定的公式,根據(jù)測(cè)出的數(shù)值來(lái)計(jì)算。
在第5章和附錄A中所規(guī)定的精度是:電容率精度為±1%,介質(zhì)損耗因數(shù)的精度為±(5%±0.0005)。這些精度至少取決于三個(gè)因素:即電容和介質(zhì)損耗因數(shù)的實(shí)測(cè)精度;所用電裝置引起的這些量的校正精度;間法向真空電容的計(jì)算精度(見(jiàn)表1)。
對(duì)于帶有保護(hù)電的試樣,其測(cè)量精度只考慮間法向真空電容時(shí)有計(jì)算誤差。但由被保護(hù)電和保護(hù)電之間的間隙太寬而引起的誤差通常大到百分之零點(diǎn)幾,而校正只能計(jì)算到其本身值的百分乏幾。如果試樣厚度的測(cè)量能到±0.005mm,則對(duì)平均厚度為1.6mm的試樣,其厚度測(cè)量誤差能達(dá)到百分之零點(diǎn)幾。圓形試樣的直徑能測(cè)定到±0.1%的精度,但它是以平方的形式引人誤差的,綜合這些因素,間法向真空電容的測(cè)量誤差為±0.5%。
采用測(cè)微計(jì)電時(shí),數(shù)量級(jí)是0.03的介質(zhì)損耗因數(shù)可測(cè)到真值的±0.0003,數(shù)量級(jí)0.0002的介質(zhì)損耗因數(shù)可測(cè)到真值的±0.00005介質(zhì)損耗因數(shù)的范圍通常是0.0001?0.1,但也可擴(kuò)展到0.1以上。頻率在10MHz和20MHz之間時(shí),有可能檢測(cè)出0.00002的介質(zhì)損耗因數(shù)。1?5的相對(duì)電容率可測(cè)到其真值的±2%,該精度不僅受到計(jì)算間法向真空電容測(cè)量精度的限制,也受到測(cè)微計(jì)電系統(tǒng)誤差的限制。
試驗(yàn)報(bào)告中應(yīng)給出下列相關(guān)內(nèi)容:
試樣條件處理的方法和處理時(shí)間;
測(cè)量?jī)x器;
施加的電壓;
相對(duì)電容率εr(平均值);
試驗(yàn)日期;
表1 真空電容的計(jì)算和邊緣校正
間法向電容 (2) | (單位:皮法和厘米) 1.有保護(hù)環(huán)的圓盤(pán)狀電 |
| 2.沒(méi)有保護(hù)環(huán)的圓盤(pán)狀電 |
|
|
| 其中:ε1 是試樣相對(duì)電容率的近似值,并且a≤h |
(1)
(單位:皮法和厘米)
邊緣電容的校正
(3)
3.有保護(hù)環(huán)的圓柱形電
4.沒(méi)有保護(hù)環(huán)的圓柱形電
其中:ε1 是試樣相對(duì)電容率的近似值
其中:
In——自然對(duì)數(shù);
表2 試樣電容的計(jì)算——接觸式測(cè)微計(jì)電
注 | 1.并聯(lián)一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)電容器來(lái)替代試樣電容 | △C——取去試樣后,為恢復(fù)平衡時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)電容器的電容增量 Cs——取去試樣后,恢復(fù)平衡,測(cè)微計(jì)電間距為s時(shí)的標(biāo)定電容Cor,Coh——測(cè)微計(jì)電之間試樣所占據(jù)的,間距分別為r或h的空氣電容??捎帽?中的公式1來(lái)計(jì)算r——試樣與所加電的厚度 相對(duì)電容率: | ||||||||||||||||||
試樣直徑至少比測(cè)微計(jì)電的直徑小2r。在計(jì)算電容率時(shí)必須采用試樣的真實(shí)厚度h和面積A。 | ||||||||||||||||||||
CP=Cs-Cr+Cor | 3.并聯(lián)一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)電容器來(lái)替代試樣電容 CP=△C+Coh | 表3電容率和介質(zhì)損耗因數(shù)的計(jì)算——不接觸電
1——測(cè)微計(jì)頭; | 2——連接可調(diào)電(B)的金屬波紋管; | 3——放試樣的空間(試樣電容器M1; | 4——固定電(A); | 5——測(cè)微計(jì)頭; |
|
單位為毫米
1——內(nèi)電;
2——外電;
3——保護(hù)環(huán);
圖2 液體測(cè)量的三電試驗(yàn)池示例
注滿(mǎn)試驗(yàn)池所需的液體量大約15mL
2——絕緣子;
圖3 測(cè)量液體的兩電試驗(yàn)池示例
1——溫度計(jì)插孔;
3——石英玻璃;
5——溫度計(jì)插孔
<span "="" style="margin: 0px; padding: 0px; line-height: initial;">圖4 液體測(cè)量的平板兩電試驗(yàn)池
電話(huà)
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